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組分 配比/%?磷酸鉀 0?二磷酸鉀 0?三聚磷酸鉀 0?異房基苯接酸鈉 0?十二烷基苯磺酸鈉 0十二烷基脂肪胺乙氧基化物 0氫氧化鈉0?聚乙二醇0?水0（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

組分配比/%1.2—二氯—1,1—二氟乙烷0.01.1.2-三氯三氟乙烷0.0產品特點該清洗劑用于半導體裝置和電路生產中清洗，具有去污力好和不易燃的特點。（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

組分配比/%碳酸鈉0三聚磷酸鈉0有機硅共聚物0芥菜汁0水余量產品特點該清洗劑能清去松香熔劑，去污力高，還有防腐蝕性能。 配方九電子元件、電路用清洗劑。（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

組分配比/%三聚磷酸鈉0C10~18脂肪醇聚氧乙烯醚0二氯甲烷0乙醇0水0制法：將三聚磷酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醍置于容器中，注入一半水，加熱至0~0度，在攪拌下溶解。當溶液冷卻至0?0度后，攪拌下加入預先配好的*的*溶液，加入另一半水，攪拌均勻即可使用。（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制

組分配比/%1,1,2 -三氯-1,2,2 -三氟乙烷? ? ? ? ? ? ? ? ? 0C10~16脂肪酸單乙醇酰胺? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 0表面活性劑? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?0乙醇或異丙醇? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? &nb

組分組分十二烷基苯磺酸鈉0.0甲撐雙蔡磺酸二鈉（潤滑劑）0.0氫氧化鉀0.0三聚磷酸鈉0.0硅酸鈉0.0水0.0產品特點本配方清洗劑專門用于無線電電子儀器的清洗。清洗效果好，防腐，潤滑。（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

組分配比/%碳酸鈉? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 0.0三聚磷酸鈉? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?0.0有機硅共聚物? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??0.0芥酸? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

組分? ? ? ? ? ? ? ? ? ?配比/%磷酸鉀? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?0二磷酸鉀? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 0三聚磷酸鉀? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?0異丙基苯磺酸鈉? ? ? ? ? ? 0十二烷基苯磺酸鈉? ? ?

組分? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?配比/%C1O~18脂肪醇聚氧乙烯醍0.0鄰羥基苯甲酸? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 0.0 - 0.0水? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?余量產品特點本清洗劑不含難

陽極雜質清洗劑組分? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 配比/%三聚磷酸鈉? ? ? ? ? 0.0十二烷基苯磺酸鈉? ? ? ?0.0水? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 余量產品特點該產品主要是清洗陽極化鋁上的雜質，對被洗物不產生腐 蝕。使用的水中可加入Ni(N03)2,以便能提供0.3%的附Ni2+。

污染物對電子設備的制造和操作影響很大。尤其近來發展高密度微型電子設備，一個元件比一粒塵埃還小，因而微粒污染物的影響很大。在電子設備或線路上，即使有微量的金屬屑粒，后果也將是嚴重的。

該清洗劑適用于清洗各種玻璃表面。

組分 配比/%水0.0MONATERCE LF - 945(改性咪哇嘛兩性活性劑)? ? ? ? ? ? ? ? ??0.0氟氫化鉉? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??0.0產品特點清洗劑配方中，MONATERCE LF-945有效潤濕表面，

組分配比/%氨基磺酸0.0羥基乙酸0.0丁基溶纖劑0.0水0.0MACKAM 2CSF(椰油兩性二丙酸鹽)0.0（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

組分配比/%MACKAM 2CYSF(辛基兩性二丙酸鹽)0.0三乙醇胺0.0KOH(45%)0.0水? 0.0（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和產品參數數據。請勿依據該配方盲目嘗試配制。）

在日常清潔中，很多時候涉及除銹除垢工作，如水壺、暖 瓶、熱水器、洗碗機以及水杯、熱水杯的清洗。除銹除垢劑可用酸作主洗劑，也可用堿作主洗劑，但通常以酸居多。除銹除垢劑常由酸（或堿）、緩蝕劑、表面活性劑組成，其 配方要點是酸與緩蝕劑的選擇。配方一泡沫酸性清洗劑組分配比/%水? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

濃縮低泡鋁清洗劑組分? ? ? ? ? ?配比%水? ? ? ? ? ?0.0焦磷酸鉀（100%）? ? ? ? ? ? 0.0無水偏硅酸鈉MONANF -10（烷基烷氧基烷酸鉀）? 0.0產品特點濃縮低泡鋁清洗劑本品外觀為清液，其濁點為88龍。配方中，MONANF-10易于置換污垢，并提供極好的漂洗性，非常適于噴射和蒸汽清洗系統。（注意：以上數據組分及配比只做

組分? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?配比/ %?水 ? ?0.0?鹽酸(37%) 0.0?磷酸(85%) 0.0?MONATERIC 1188M（月桂酰胺二丙酸二鈉） 0.0產品特點本產品外觀清液。在此光亮/清洗劑配方中，MONATERIC H88M提供潤濕、清洗和高泡性能。（注意：以上數據組分及配比只做為探討和交流，不代表我司產品配方依據和

通常，鋁的保護主要通過控制清洗劑的pH值（一般為中性至弱堿性）和緩蝕劑來取得。低溫鋁材清洗劑配方組分配比%水 0.0?丁基卡必醇（二乙二醇丁酸） 0.0?無水偏硅酸鈉 0.0?MONANF - 10（烷基烷氧基烷酸鉀） 0.0?焦磷酸鈉（粉） 0.0?產品特點本產品外觀為清液，pH值為12. 8。其中MONANF-10提供極好的清洗性能，控制泡沫，同時保護鋁。（注意：以上數據組分及配比只

食品加工設備，尤其是乳品設備，對清洗劑要求很嚴格。這是因為所加工的產品或乳品直接供人們食用，加工設備必須符合國家規定的食品衛生條件。因此，除所加工物—食品和乳品應經過清洗，更重要的是加工設備也必須經常清洗。尤其是一些易腐敗變質的乳品，每次停車和開車，都應清洗管道和設備，保證加工食品、乳品不帶入雜質和細菌。下面重點介紹幾種專用的食品