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陽離子型表面活性劑在水中電離出的陽離子部分起活性作用，如十二烷基三甲基氯化鑲。[C12H25-N(CH3)3]CI-[C12H25N(CH3)3]+CI-季鉉鹽、叱呢鹽等陽離子表面活性劑多數(shù)用于緩蝕、防腐、殺菌及抗靜電等方面。

陰離子型表面活性劑在水中電離出的陰離子部分起活性作用，如：烷基短酸鈉R—COONa—RCOO-+Na+烷基硝酸鈉R—NO3Na―RNO；+Na+烷基硫酸鈉R—0—SO3Na—ROSO3+Nq+這類活性劑主要用作清洗劑、起泡劑、乳化劑等。

堿洗的作用是除油（尤其對新建鍋爐）和將鈣、鎂的硫酸鹽轉化成可被酸溶解的碳酸鹽。常用的堿洗主劑 主要有NciOH、NO2CO3、NCI3PO4、NCI2HPO4、 NOH2PO4,必要時加入表面活性劑。堿性清洗劑中包括堿洗主劑（堿或堿式鹽）、表面活性劑和助劑等。

化學清洗劑中包括溶劑、酸或堿、氧化劑或還原劑、表面活性劑、緩 蝕劑和鈍化劑以及助劑等。溶劑是指那些能把清洗劑中其他組分均勻分散的液態(tài)物質，它包括水 及非水溶劑。溶劑在污垢溶解、分散或與基體剝離過程中不生成具有確定 化學組成的新物質。（1）水 在工業(yè)清洗中，水既用于溶解清洗劑中其他組分，又是許多 污垢的溶劑。在清洗中，凡是可以用水除去污垢的

由多種表面活性劑、調節(jié)劑、除銹劑、緩蝕劑、分散劑緩蝕劑等組成。【產(chǎn)品特性】是一種不易燃、環(huán)保的膠漬清除劑，清除力強、功效卓越，可快速清 除模具表面的膠漬污垢。使用方便，避免 浪費人力刷模以至損害模具表面。節(jié)省大 量工作時間及成本。適用于ABS、PPO、 PBT、PTFE、PA、PVC等塑膠污漬的 清除。通過SGS檢測標準。本資料不作為產(chǎn)品性能、參數(shù)及生產(chǎn)工藝之依據(jù)。

對油脂、污垢，銹斑有很好的 清洗能力，其脫脂、去污凈洗能力超強。 溶解完全，易漂洗；并且在清洗的同時能 有效地保護被清洗材料表面不受侵蝕。

【組成】由表面活性劑、聚合物、螯合 劑、無機鹽及水等組成。【配方】①三氯甲烷不是《蒙特利爾議定書》附件 A?E的受控物質。[配方分析】 由于本產(chǎn)品主要原料是N- 甲基毗咯烷酮，是兩性物質，既能溶解極 性無機物質，又能溶解非極性有機（油 性）物質。而甲苯、乙基苯、間/對二甲 苯、鄰二甲苯為油性物質，能溶解油性物 質。以上原料按比例混合后，制成的模具 清

由表面活性劑、聚合物、螯合 劑、無機鹽及水等組成。【產(chǎn)品特性】①高溫模具直接清洗，瞬間 內完全清除污垢，無需停機，絕不影響生 產(chǎn)。除垢后的模具干凈光亮，即能提高產(chǎn) 品品質，又能提高生產(chǎn)效率；②此產(chǎn)品為 高濃縮水溶性液體，可依照模具的污染程 度，適當?shù)丶铀♂屖褂茫浅＝?jīng)濟實 用，直接能降低生產(chǎn)成本，油污或輕度的 鐵銹亦可以清除。【制備工藝】&nb

清洗劑常用的助劑有，磷酸鹽、硅酸鈉、碳酸鈉、乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、金屬離子絡合劑，吸附劑等。

鈍化劑濃度的影響，鈍化劑的濃度要足量，若濃度不足時，在陽極生成的鈍化膜就會不完整，鈍化膜就會形成新的陰極（相對較大），而缺陷處會變成新的陽極（相對較小），這樣就形成了小陽極對大陰極，在陽極處形成較大的腐蝕電流，造成孔蝕。

氧化法，習慣用亞硝酸鈉作為鈍化劑(1.0%?2.0%),用氨水調節(jié)鈍化液pH在9.0?10. 0之間，金屬表面可形成不溶性致密的氧化膜，阻止金屬腐蝕的陽極過程進行。

若丁，是我國最早的酸洗緩蝕劑之一，由二鄰苯酸服、淀粉、食鹽、平平加（或皂角粉）組成。

苯甲酸鈉是一種適應性較廣的緩蝕劑。它不是氧化劑，在濃度不足時參與陰極過程，不屬于危險緩蝕劑，故不會加速腐蝕。苯甲酸鈉溶于水和醇類，屬于水溶性有機緩蝕劑。

亞硝酸鹽它易溶于水，一般配成2%?20%水溶液，并常加入0.3%?0.6%的NO2CO3調節(jié)pH在8?10之間。

單功能型緩蝕劑這種緩蝕劑只含有某一種基團（如氨水、烏洛托品），它們僅對鋼鐵類黑色金屬材料制品具有緩蝕性能。

水溶性緩蝕劑的作用機理都是在金屬表面生成穩(wěn)定的保護膜。

清洗過程中的酸腐蝕包括化學腐蝕和電化學腐蝕。

在制造和安裝鍋爐的過程中需涂抹油性防銹劑，該油脂在鍋爐運行中容易起泡沫，啟用之前必須將油脂去除。

（１）親水性污垢可溶于水的污垢是極性物質，如食鹽等無機物或蔗糖等有機物，這些污垢通常用水基清洗劑加以去除。（２）親油性污垢親油性污垢是非極性或弱極性物質，如油脂、礦物油、樹脂等有機物，它們一般不溶于水。親油性污垢可以利用有機溶劑進行溶解，也可以用表面活性劑溶液對其進行乳化、分散加以去除。

一般情況下，無機污垢常采用酸或堿等化學試劑使其溶解而去除，而有機污垢則經(jīng)常利用氧化分解或乳化分散的方法從基體表面去除。